電纜警示帶的結(jié)構(gòu)、敷設(shè)和探測(cè)
2019年12月26日
底膜與面膜、底膜與鋁箔結(jié)合牢固，并整體滾花成型。蹤跡電纜警示帶印有醒目、永久性的警示語(yǔ)，不掉色、不褪色。
電纜警示帶的物理性能
（1）蹤跡電纜警示帶每卷內(nèi)無(wú)接頭。
（2）蹤跡電纜警示帶兩層塑料薄膜的剝離強(qiáng)度應(yīng)大于0.10N/mm（拉伸速度 25mm/min）。
（3）每卷蹤跡電纜警示帶應(yīng)通電導(dǎo)通，電阻小于20Ω/100m（用歐姆表檢測(cè)）。
（4）蹤跡電纜警示帶的延伸率≥25％。
電纜警示帶的敷設(shè)
（1）蹤跡電纜警示帶敷設(shè)在管頂上方300-500mm處（以保證施工挖出蹤跡帶時(shí)，傷害不到管線），但不得敷設(shè)于路基或路面里。
（2）直徑不大于400mm的管道，可在上方敷設(shè)一條蹤跡電纜警示帶；大于400mm的管道，應(yīng)在管道正上方平行敷設(shè)兩條水平凈距100-200mm的蹤跡電纜警示帶。
（3）敷設(shè)過(guò)程中，兩條蹤跡電纜警示帶連接處應(yīng)搭接1米左右，搭接處將鋁箔一側(cè)的PE膜剝開(kāi)，露出鋁箔，使兩條蹤跡帶的鋁箔充分接觸，并用塑料膠帶將搭接部分整體包裹嚴(yán)實(shí)，保證粘接牢固，通電后能導(dǎo)通（示意圖如下）。
（4）在PE管管端，若蹤跡帶沒(méi)有引出地面，則應(yīng)將蹤跡帶剝開(kāi)50厘米長(zhǎng)，讓鋁箔與大地充分接觸，鋁箔與大地形成回路，減少接觸電阻，可以提高探測(cè)質(zhì)量。
（5）敷設(shè)過(guò)程中可設(shè)置信號(hào)源井，將蹤跡帶引出，留在井內(nèi)1米，便于探測(cè)時(shí)用。
（6）蹤跡帶整體滾花成型并成卷放置、運(yùn)輸，蹤跡帶開(kāi)卷后會(huì)不平展。施工時(shí)，把蹤跡帶打開(kāi)4-5米，兩個(gè)人用手抓住兩端用力拉平，松手后蹤跡帶便會(huì)平展。然后再進(jìn)行敷設(shè)。
（7）局部超挖部分應(yīng)回填夯實(shí)。當(dāng)溝底無(wú)地下水時(shí)，超挖在0.15m以內(nèi)，可采用原土回填；超挖在0.15,以上，可采用石灰土處理。當(dāng)溝底有地下水或水量較大時(shí)，應(yīng)采用級(jí)配砂石或天然砂回填至標(biāo)高。超挖部分回填后壓實(shí)，其密實(shí)度應(yīng)接近原地基天然土的密實(shí)度。
（8）在濕陷性黃土地區(qū)，不宜在雨期施工，或在施工時(shí)切實(shí)排除溝內(nèi)積水，開(kāi)挖時(shí)應(yīng)在溝底預(yù)留值0.03~0.06m厚的土層進(jìn)行壓實(shí)處理。
（9）溝底遇有廢棄構(gòu)筑物、硬石、木頭、垃圾等雜物時(shí)必須清除，并應(yīng)鋪一層厚度不小于0.15m砂土或素土，整平壓實(shí)及設(shè)計(jì)標(biāo)高。
（10）不得采用凍土、垃圾、木材及軟性物質(zhì)回填。管道兩側(cè)及管頂以上0.5m內(nèi)的回填土，不得含有碎石、磚塊等雜物，且不得采用灰土回填。距管頂0.5m以上的回填土中的石塊不得多于10%、直徑不得大于0.1m,且均勻分布。
（11）回填土應(yīng)分層壓實(shí)，每層虛鋪厚度宜為0.2~0.3m，管道兩側(cè)及管頂以上0.5m內(nèi)的回填土必須采用人工壓實(shí)，管頂0.5m以上的回填土可采用小型機(jī)械壓實(shí)，每層虛鋪厚度宜為0.25~0.4m。
（12）埋設(shè)燃?xì)夤艿赖难鼐€應(yīng)連續(xù)鋪設(shè)警示帶。警示帶鋪設(shè)前應(yīng)將鋪設(shè)面壓實(shí)，并平整的鋪設(shè)在管道的正上方，距管定的距離宜為0.3~0.5m，但不得鋪設(shè)于路基和路面內(nèi)。
電纜警示帶的探測(cè)
蹤跡電纜警示帶的探測(cè)最常用的方法是電磁法。蹤跡電纜警示帶內(nèi)夾帶的金屬箔，在電磁場(chǎng)作用下的感應(yīng)電流會(huì)產(chǎn)生二次場(chǎng)?？稍诘孛嫔嫌锰綔y(cè)儀器探測(cè)到，以確定 蹤跡電纜警示帶的位置。例如電磁法主動(dòng)源法，信號(hào)強(qiáng)，定位、定深的精度高，不受臨近其他管道干擾（被查蹤跡電纜警示帶需有露出點(diǎn)）。使用時(shí)發(fā)射機(jī)一端接被 查蹤跡帶，另一端接地或接蹤跡帶另一端。探測(cè)儀通過(guò)探測(cè)蹤跡帶產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度的變化，確定蹤跡帶的空間位置。
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